全球光刻机巨头 ASML 突破 EUV 光源瓶颈，芯片产能有望大幅跃升！

全球光刻机巨头 ASML 突破 EUV 光源瓶颈，芯片产能有望大幅跃升！

ASML 今日披露了一项关键技术突破：通过将激光照射的锡滴数量翻倍。对于全球芯片制造商而言，这相当于在不增加机器台数的前提下，凭空多出了三分之一的产能。
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