《路透社》周一(23 日) 独家报导指出，#ASML#最新表示，已找到可大幅提升关键芯片制造机器光源功率的方法，进而能在2030 年前将芯片产量提高多达50%。这家半导体设备制造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000 瓦，预计到2030 年极紫外光(EUV) 光刻设备每小时的晶圆产量可增加50%。http://t.cn/AXcbZ3mq
EUV光源功率可提升至千瓦#！ASML：2030年每小时晶圆产量可望提升50%
【#EUV光源功率可提升至千瓦#！ASML：2030年每小时晶圆产量可望提升50%】#光刻机#
《路透社》周一(23 日) 独家报导指出，#ASML#最新表示，已找到可大幅提升关键芯片制造机器光源功率的方法，进而能在2030 年前将芯片产量提高多达50%。这家半导体设备制造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000 瓦，预计到2030 年极紫外光(EUV) 光刻设备每小时的晶圆产量可增加50%。http://t.cn/AXcbZ3mq
《路透社》周一(23 日) 独家报导指出，#ASML#最新表示，已找到可大幅提升关键芯片制造机器光源功率的方法，进而能在2030 年前将芯片产量提高多达50%。这家半导体设备制造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000 瓦，预计到2030 年极紫外光(EUV) 光刻设备每小时的晶圆产量可增加50%。http://t.cn/AXcbZ3mq