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全球光刻机巨头 ASML 突破 EUV 光源瓶颈,芯片产能有望大幅跃升!

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发表于 2 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
全球光刻机巨头 ASML 突破 EUV 光源瓶颈,芯片产能有望大幅跃升!

ASML 今日披露了一项关键技术突破:通过将激光照射的锡滴数量翻倍。对于全球芯片制造商而言,这相当于在不增加机器台数的前提下,凭空多出了三分之一的产能。
🖲️http://t.cn/AXcbj2vk ​​​
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